2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[20a-W321-1~10] 3.7 レーザープロセシング

2016年3月20日(日) 09:00 〜 11:45 W321 (西2・3号館)

坂倉 政明(京大)

10:00 〜 10:15

[20a-W321-5] レーザー駆動EUV光による物質アブレーションにおけるイオンエネルギーと価数診断

〇(M1)出口 亮1、田中 のぞみ1、和田 直1、砂原 淳2、余語 覚文1、西村 博明1 (1.阪大レーザー研、2.レーザー総研)

キーワード:EUV応用、物質アブレーション、プラズマ診断

集光EUV光に特有な物質アブレーションのメカニズムを解明するために、イオンエネルギーと価数に関する研究を行った。Nd:YAGレーザーによるアブレーションとの比較とシミュレーション結果から、YAGレーザーは形成されたプラズマに吸収されるのに対し、EUV光はプラズマを伝搬して固体密度領域で吸収されるという原理的に予測されうる根本的なエネルギー吸収機構の違いを実験的に明らかにした。