[20a-W321-1~10] 3.7 Laser processing

△ [20a-W321-5] Study of ion energy and valence from material ablation plasma generated with laser-driven Extreme ultraviolet (EUV) radiation

〇(M1)ryo deguchi¹, nozomi tanaka¹, nao wada¹, atsushi sunahara², akifumi yogo¹, hiroaki nishimura¹ (1.ILE Osaka Univ., 2.ILT)

Keywords:EUV application,Material ablation,Plasma diagnostics

集光EUV光に特有な物質アブレーションのメカニズムを解明するために、イオンエネルギーと価数に関する研究を行った。Nd:YAGレーザーによるアブレーションとの比較とシミュレーション結果から、YAGレーザーは形成されたプラズマに吸収されるのに対し、EUV光はプラズマを伝搬して固体密度領域で吸収されるという原理的に予測されうる根本的なエネルギー吸収機構の違いを実験的に明らかにした。