2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.6 IV族系化合物(SiC)

[20p-H101-1~21] 15.6 IV族系化合物(SiC)

2016年3月20日(日) 13:15 〜 19:00 H101 (本館)

加藤 正史(名工大)、岡本 光央(産総研)、染谷 満(富士電機)

18:00 〜 18:15

[20p-H101-18] 界面準位密度を考慮したSiC-MOSFET伝達特性モデルの構築

国崎 愛子1、長谷川 淳一1、岩崎 孝之1、野口 宗隆2、古橋 壮之2、渡邊 寛2、中田 修平2、小寺 哲夫1、波多野 睦子1 (1.東工大、2.三菱電機先端総研)

キーワード:SiC-MOSFET、モデル、界面準位

SiC-MOSFETは実用化のステージに入っているが、SiO2/SiC界面準位がMOSFETの性能と信頼性に悪影響を与えると考えられている。本研究では、横型および縦型のSiC-MOSFETの伝達特性と界面準密度の相関を明らかにするために、実測した界面準位密度を取り入れたモデルを構築した。移動度・界面固定電荷密度をパラメーターとして、横型SiC-MOSFETの伝達特性を再現した。また、縦型SiC-MOSFETのシミュレーション結果は、測定結果に対してしきい値が約-1V、オン電流が0.85倍となった。