The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.8 Crystal evaluation, impurities and crystal defects

[20p-H113-1~13] 15.8 Crystal evaluation, impurities and crystal defects

Sun. Mar 20, 2016 2:15 PM - 5:45 PM H113 (H)

Koji Sueoka(Okayama Pref. Univ.), Yoshifumi Yamashita(Okayama Univ.)

5:15 PM - 5:30 PM

[20p-H113-12] Inelastic x-ray scattering measurements of phonon dispersion and lifetimes in ScN epitaxial film

Hiroshi Uchiyama1, Yuichi Oshima2, Garcia Villora2, Kiyoshi Shimamura2 (1.JASRI/SPring8, 2.NIMS)

Keywords:phonon dispersion,ScN

ScNエピタキシャル薄膜のフォノン分散およびフォノン寿命を非弾性x線散乱法により測定した.実験的に得られた[100]および[110]方向のフォノン分散は第一原理計算結果とよく合致することがわかった.また,[100]方向の光学フォノンの線幅からフォノン寿命を算出した.こちらも計算とよく合致している.