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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:45 S423 (南4号館)

東清一郎(広島大)、原明人(東北学院大)

18:15 〜 18:30

[20p-S423-18] スパッタエピタキシーによるp⁺エミッタ型Si太陽電池の開発

〇森山光¹、葉文昌¹ (1.島根大学)

キーワード：シリコン太陽電池、エピタキシャル成長

　　　