2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2016年3月20日(日) 13:45 〜 18:45 S423 (南4号館)

東 清一郎(広島大)、原 明人(東北学院大)

14:00 〜 14:15

[20p-S423-2] 大気圧マイクロ熱プラズマジェットを用いたP+ドープa-Ge膜の結晶化及び活性化

原田 大夢2、中谷 太一1、新 良太1、東 清一郎1 (1.広島大学先端物質科学研究科、2.広島大学工学部)

キーワード:大気圧マイクロ熱プラズマジェット、Ge薄膜