[20p-S423-1~19] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[20p-S423-2] 大気圧マイクロ熱プラズマジェットを用いたP⁺ドープa-Ge膜の結晶化及び活性化

〇原田 大夢²、中谷 太一¹、新 良太¹、東 清一郎¹ (1.広島大学先端物質科学研究科、2.広島大学工学部)

キーワード：大気圧マイクロ熱プラズマジェット、Ge薄膜