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[20p-S611-4] n型CZシリコンのキャリア寿命に対する熱処理による酸素析出の影響
キーワード:酸素析出、キャリア寿命、n型CZシリコン
酸素濃度の異なる太陽電池用n型CZシリコン基板に拡散工程,誘電体成膜工程を模した450,850,950°Cの熱処理を行ない,キャリア寿命と欠陥領域の変化を調べた.高酸素濃度の基板では950°Cでリング状に分布した酸素の析出が起こり,キャリア寿命は大きく劣化した.また850°Cでは炭素濃度の低いものはキャリア寿命が改善し,高いものでは劣化した.一方,低酸素濃度の基板はより高温でキャリア寿命が改善した.