[20p-S621-1~13] 3.15 Silicon photonics

[20p-S621-5] Ultra-low threading dislocation density Ge film by lateral overgrowth on SiO₂

〇Motoki Yako¹, Kazumi Wada¹ (1.Univ. of Tokyo)

Keywords:germanium,threading dislocation density

SiO₂上横方向成長を用いて貫通転位密度の低いGeム薄膜をSi上に成長した。
得られたGe平坦膜はエッチピット法による評価で10⁵ cm^-2程度のピット密度を有することが確認された。