[20p-S621-1~13] 3.15 シリコンフォトニクス

[20p-S621-7] Ge/SiGeヘテロ接合アバランシェフォトダイオードの作製

〇宮坂 祐司¹、開 達郎²、岡﨑 功太²、土澤 泰²、山本 剛²、和田 一実¹、石川 靖彦¹ (1.東大工、2.NTT先端集積デバイス研)

キーワード：シリコンフォトニクス、フォトダイオード