2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21a-H103-1~10] 6.4 薄膜新材料

2016年3月21日(月) 09:00 〜 11:45 H103 (本館)

鈴木 基史(京大)

10:30 〜 10:45

[21a-H103-6] ペチーニ法で作製した粉末によるBi過剰Bi1.2FeOxターゲットを用いたBiFeO3薄膜の作製と評価

王 春1、大島 佳祐1、稲葉 隆哲1、宋 華平1、渡部 雄太1、永田 知子1、橋本 拓也2、高瀬 浩一1、山本 寛1、岩田 展幸1 (1.日大理工、2.日大文理)

キーワード:BiFeO3、Bi過剰、ペチーニ法