2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.4 薄膜新材料

[21a-H103-1~10] 6.4 薄膜新材料

2016年3月21日(月) 09:00 〜 11:45 H103 (本館)

鈴木 基史(京大)

10:45 〜 11:00

[21a-H103-7] 塗布光照射法における酸化スズ膜結晶化過程のナノ秒温度計測

〇(M1)勝木 司1、中島 智彦2、土屋 哲男2、湯本 敦史1、篠田 健太郎2 (1.芝浦工大院理工、2.産総研)

キーワード:酸化物、化学溶液法、エキシマレーザー