The 63rd JSAP Spring Meeting, 2016

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6 Thin Films and Surfaces » 6.4 Thin films and New materials

[22a-P5-1~18] 6.4 Thin films and New materials

Tue. Mar 22, 2016 9:30 AM - 11:30 AM P5 (Gymnasium)

9:30 AM - 11:30 AM

[22a-P5-16] Tin oxide thin films deposited with a non-equilibrium 2-dimentional plasma under N2/O2 gas flowing

Kento Horimizu1, Syota Kanezashi1, Yuki Masuda1, Masayuki Okuya1,2 (1.Grad.School Eng., Shizuoka Univ., 2.Res.Inst.Green Sci.Tech., Shizuoka Univ.)

Keywords:plasma,surface discharge,SnO2

透明導電膜はタッチパネルや太陽電池に用いられており、近年のエレクトロニクス産業に欠かせない製品である。本研究グループでは、製膜コストの低減や装置の簡便化を目的として沿面放電により生じる非平衡二次元プラズマに焦点を当て、これまでにZnOの製膜を報告した。前回の本会において、この技術を新規にSnO2の製膜へ応用した結果を報告したが、不純物相の残存が課題となった。そこで、今回は新規の前駆体を導入するとともに、雰囲気によりプラズマ活性種を制御し、SnO2相の単相化を目指した。