2016年第63回応用物理学会春季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[22a-W541-1~10] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2016年3月22日(火) 09:00 〜 11:45 W541 (西5号館)

中村 成志(首都大)

10:00 〜 10:15

[22a-W541-5] GaN表面熱酸化処理によるMOS界面特性の向上

山田 高寛1、伊藤 丈予1、淺原 亮平1、渡邉 健太1、野崎 幹人1、細井 卓治1、志村 考功1、渡部 平司1 (1.阪大院工)

キーワード:GaN、熱酸化