HsiangFang Sun

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発表者・著者、共著者

2017年9月5日(火) 13:45 〜 16:30 C11 (事務室1)

一般セッション(口頭講演)
| 13 半導体
| 13.3 絶縁膜技術

[5p-C11-1~10] 13.3 絶縁膜技術

6.1と13.3と13.5のコードシェアセッションあり

15:15 〜 15:30

▼ [5p-C11-6] Low-temperature Oxidation Characteristics of Si using SrTi_xMg_1-xO_3-δ Catalyst

〇(D)HsiangFang Sun¹、Akihiro Ikeda¹、Tanemasa Asano¹ (1.Kyushu Univ.)