09:30 〜 09:45
〇中田 真史1、山本 将暉1、入江 翔1、小又 祐介1、青木 孝1、鮫島 俊之2、水野 智久1 (1.神奈川大理、2.東京農工大工)
中田 真史
発表者・著者、共著者
2017年9月6日(水) 09:15 〜 12:15 C21 (C21)
- 一般セッション(口頭講演)
- | 13 半導体
- | 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術
2017年9月6日(水) 09:15 〜 12:15 C21 (C21)
09:30 〜 09:45
〇中田 真史1、山本 将暉1、入江 翔1、小又 祐介1、青木 孝1、鮫島 俊之2、水野 智久1 (1.神奈川大理、2.東京農工大工)