15:15 〜 15:30 [6p-C21-7] ミニマルファブ用ミラー磁場閉じ込めプラズマ源を用いたシリコン窒化膜形成 〇後藤 哲也1、佐藤 恵一朗2、薮田 勇気3、須川 成利1、原 史朗4,5 (1.東北大未来研、2.コーテック、3.誠南工業、4.産総研、5.ミニマルファブ技術研究組合)