[5a-C11-1~11] 13.3 絶縁膜技術

[5a-C11-6] HfO₂/GeO₂/Ge構造におけるGeO₂層の作製条件の検討

〇和知 祥太郎¹、岩崎 好孝¹、上野 智雄¹、山田 浩史¹、北原 義典¹、並木 美太郎¹ (1.農工大院工)

キーワード：ゲルマニウム