2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » シリコン結晶における不純物制御の科学 ~ゲッタリングが描くウェーハの未来像~

[5p-A204-1~9] シリコン結晶における不純物制御の科学 ~ゲッタリングが描くウェーハの未来像~

2017年9月5日(火) 13:30 〜 17:45 A204 (204)

小野 敏昭(SUMCO)、仮屋崎 弘昭(グローバルウェーハズ・ジャパン)

14:00 〜 14:30

[5p-A204-2] イントリンシックゲッタリング能力を付与した各種IG-Siウェーハ製品の開発経緯

宝来 正隆1 (1.株式会社SUMCO)

キーワード:CZ-Si結晶、イントリンシクゲッタリング、窒素ドープ

約35年間に亘って、CZ-Si結晶中の欠陥挙動と制御に関する研究や窒素/炭素をドープした結晶の特性を活かした各種ウェーハ製品の開発に携わってきた。これまでの研究開発において経験したいくつかのTopicsをまじえて、DZ-IGやDZ-IG/EPの問題点とその改善から得られた水素雰囲気中アニールの欠陥除去効果や、窒素/炭素ドープによるIG強化EPなどの各種IG-Siウェーハ製品の開発の経緯を紹介する。