[5p-A204-1~9] Science of impurity control in silicon wafers

[5p-A204-8] Gettering Technology for CMOS Image Sensors Using Cluster Ion Implantation Technique

〇Kazunari Kurita¹ (1.SUMCO CORPORATION)

Keywords:silicon wafer, gettering, CMOS image sensor

CMOSイメージセンサの製品性能向上を意図してクラスターイオンビーム技術を用いてデバイスの活性層直下に重金属および軽元素をゲッタリングすることのできる３つのユニークな製品特徴のあるシリコンエピタキシャルウェーハを開発した。本講演において、新規開発ウェーハの製品特徴の詳細と実デバイス製造工程で得られたセンサの白傷欠陥、暗電流特性について紹介する。