[5p-A204-1~9] シリコン結晶における不純物制御の科学 ～ゲッタリングが描くウェーハの未来像～

[5p-A204-9] ＣＭＯＳイメージセンサの性能への金属不純物等の影響

〇佐藤 信彦¹ (1.キヤノン(株))

キーワード：CMOSイメージセンサ、金属汚染

CMOSイメージセンサは、画素数の増加や感度の向上を伴って急速に進化した。このうち、感度向上の制約となるノイズとその原因について報告する。特に金属不純物は。一般的な物理化学分析手法では検出困難なレベルの汚染でも、ノイズとして検知されるので、より高感度な金属不純物モニタリング方法や、金属不純物に対するロバスト性を向上させるゲッタリング手法の検討が必要となっている。