2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[5p-C17-1~17] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2017年9月5日(火) 13:45 〜 18:15 C17 (研修室2)

加藤 正史(名工大)、佐藤 威友(北大)

18:00 〜 18:15

[5p-C17-17] 5 kV耐圧を有する自立GaN基板上p-n接合ダイオード

太田 博1、林 賢太郎1、堀切 文正2、成田 好伸2、吉田 丈洋2、中村 徹1、〇三島 友義1 (1.法政大、2.サイオクス)

キーワード:半導体、GaN、ダイオード

自立GaN基板上p-n接合ダイオードにおいて新たなガードリング構造を用いて5.0 kVの高耐圧化を達成した。