2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[5p-C21-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2017年9月5日(火) 13:45 〜 17:15 C21 (C21)

満原 学(NTT)、赤羽 浩一(NICT)

16:15 〜 16:30

[5p-C21-10] 2μm波長帯InGaAs(Sb)/InGaAs(Sb) 歪補償MQW

満原 学1、大礒 義孝1 (1.NTT先端集積デバイス研)

キーワード:歪補償MQW、InGaAsSb、InP

2 μm帯レーザの活性層には、InP上の歪InGaAs-MQW構造が用いられる。
歪補償により井戸層数を増加すれば、受光器に応用できる。しかし、歪InGaAsでは、
歪補償により顕著に膜質が劣化する。今回、歪補償MQW構造で、InGaAsに換えて
InGaAsSbを用いることで良好な結晶性を維持した成長が可能なことを明らかにし、
井戸層数を増加させた構造で2 μm以上の波長光を吸収できることを示した。