2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

[5p-C21-1~13] 15.3 III-V族エピタキシャル結晶・エピタキシーの基礎

2017年9月5日(火) 13:45 〜 17:15 C21 (C21)

満原 学(NTT)、赤羽 浩一(NICT)

14:00 〜 14:15

[5p-C21-2] MBE成長したGaAs/GaAsBi量子井戸のBiの表面偏析

〇(M1)塚本 晟1、伊藤 瑛悟1、檜垣 興一郎1、田中 佐武郎1、石川 史太郎1、下村 哲1 (1.愛媛大学)

キーワード:半導体、GaAsBi、偏析

MBE成長したGaAs/GaAsBi量子井戸をSTEM(Scanning Transmission Electron Microscope)及びEDS(Energy Dispersive Spectroscorpy)により調べ、求めたBi組成のプロファイルを解析した。