The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

7 Beam Technology and Nanofabrication » 7.2 Applications and technologies of electron beams

[5p-S41-1~20] 7.2 Applications and technologies of electron beams

Tue. Sep 5, 2017 1:15 PM - 6:45 PM S41 (Conf. Room 1)

Tadahiro Kawasaki(JFCC), Nobuhiro Ishikawa(NIMS), Shigekazu Nagai(Mie Univ.)

3:30 PM - 3:45 PM

[5p-S41-9] Three-dimensional trajectory simulation of scattered electrons in scanning electron microscope specimen chamber

Kazumasa Terada1, Yoshifumi Hagawara1, Masatoshi Kotera1 (1.Osaka Inst.)

Keywords:scanning electron microscope, fogging electrons, Monte Carlo simulation

走査電子顕微鏡(SEM)は生物学、半導体などの分野でナノスケールの表面構造観察に活用されている。従来、電子ビーム照射による試料内部散乱については議論されてきたが、試料表面から出た反射電子が対物レンズ底面との間で衝突して作られるフォギング電子は試料のビーム照射点から10mm以上も広がりノイズを形成する可能性があるため、SEMの分解能評価において試料室内全体を考慮したシミュレーションを開発する必要性が認識されている。