[5p-S42-1~15] 7.3 Micro/Nano patterning and fabrication

[5p-S42-2] Coarse-grain molecular dynamics simulation of vertical lamellar phase of diblock copolymer in a thin film

〇Toru Yamaguchi¹, Hirotaka Tanaka¹, Nicolas Clement¹, Akira Fujiwara¹ (1.NTT BRL)

Keywords:lithography, self-assembly, block copolymer

ラメラ相が発現可能な最も小さいA₂B₂バネ粒子モデルを用いて、薄膜中でのラメラ相のシミュレーションを行ったところ、(1)垂直ラメラ相が形成されること、(2)指紋状パターンが形成されること、(3)指紋状パターンのドメインが時間とともに増大していくこと、がわかり、実際のラメラ相と同様な挙動を示すことが明らかとなり、非常に極端に粗視化した分子でも配向秩序形成のダイナミクスを説明できる可能性があることが分かった。