[5p-S44-1~10] 【CS.9】7.1 X線技術と7.4 量子ビーム界面構造計測のコードシェアセッション

[5p-S44-8] 超軽量X線光学系の表面粗さ改善に向けた長時間アニール

〇伊師 大貴¹、江副 祐一郎¹、石川 久美²、沼澤 正樹¹、武内 数馬¹、寺田 優¹、藤谷 麻衣子¹、糸山 隆仁¹、大坪 亮太¹、福島 碧斗¹、大橋 隆哉¹、金森 義明³、満田 和久² (1.首都大理工、2.宇宙研、3.東北大工)

キーワード：マイクロマシン技術、Ｘ線光学系、アニール

我々は超軽量Ｘ線光学系の開発を行っている。シリコンドライエッチングにより微細穴を製作し、その側壁をＸ線反射鏡として用いる。我々は側壁の表面粗さ改善のため10時間の長時間アニールを行い、その表面形状をＸ線で評価した。その結果、>100時間の超長時間アニールを行うことで、目標とする角度分解能 HPD <10 分角を達成する見込みを得た。