The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.4 III-V-group nitride crystals

[6a-A301-1~11] 15.4 III-V-group nitride crystals

Wed. Sep 6, 2017 9:00 AM - 12:00 PM A301 (Main Hall)

Narihito Okada(Yamaguchi Univ.), Hisashi Murakami(TUAT)

10:45 AM - 11:00 AM

[6a-A301-7] [JSAP Young Scientist Award Speech] Propagation Properties of Threading Dislocations in HVPE-grown GaN Observed by Two-Photon-Excitation Photoluminescence

Tomoyuki Tanikawa1, Kazuki Ohnishi1, Masaya Kanoh2, Takashi Mukai2, Takashi Matsuoka1 (1.IMR, Tohoku Univ., 2.Nichia Corp.)

Keywords:GaN, Threading Dislocation, Multiphoton-Excitation Photoluminescence

ハイドライド気相成長法(HVPE法)を用いて成長したGaN結晶に対し、二光子励起フォトルミネッセンスにより発光分布の評価を行った。空気/GaNの屈折率差に起因した球面収差により、観察位置が深いほど空間分解能が低下したものの、300 µm膜厚程度のGaN厚膜に対し、貫通転位のイメージングを行うことができた。成長膜厚の増加に伴い暗点密度が減少する性質を示し、この傾向は転位の対消滅モデルとよく一致した。