[6a-C21-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[6a-C21-7] 高圧水素プラズマ援用輸送による銅薄膜の形成

〇大参 宏昌¹、平野 達也¹、久保田 雄介²、白数 佳紀¹、垣内 弘章¹、安武 潔¹ (1.阪大院工、2.東京エレクトロン(株）)

キーワード：銅、配線、水素プラズマ

高圧水素プラズマを用いた銅の輸送成膜について、得られた銅膜の特性等を報告する。