The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

Presentation information

Oral presentation

15 Crystal Engineering » 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

[6p-A201-1~20] 15.6 Group IV Compound Semiconductors (SiC)

Wed. Sep 6, 2017 1:30 PM - 7:00 PM A201 (201)

Shunta Harada(Nagoya Univ.), Masashi Kato(NITech), Takeshi Mitani(AIST)

4:45 PM - 5:00 PM

[6p-A201-13] Optimization of crystallization conditions of SiC crystal with machine learning

Ryota Murai1, Goki Hatasa1, Yosuke Tunooka1, Hung Lin1, Kenta Murayama1, Can Zhu1, Shunta Harada1, Miho Tagawa1, Toru Ujihara1,2 (1.Nagoya University, 2.AIST)

Keywords:SiC solution growth, simulation, machine learning

SiCの成長条件には、ヒーター出力やルツボ配置等、多くの検討事項があり、その全てをシミュレーションにより最適化するには膨大な時間を要する。本研究では10項目の結晶成長条件をランダムに変えた100条件のシミュレーション結果を機械学習することで、結晶成長条件と温度、流速分布の関係を高速(~0.1 s)で予測するシステムを作成した。