2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜

[6p-A412-1~15] 6.2 カーボン系薄膜

2017年9月6日(水) 13:15 〜 17:30 A412 (412)

小山 和博(デンソー)、嘉数 誠(佐賀大)、鹿田 真一(関西学院大)

16:45 〜 17:00

[6p-A412-13] 高電界>4×105V/cm下でのALD-Al2O3 2DHGダイヤモンドMOSFETの遮断周波数の向上

〇(B)今西 祥一朗1、大井 信敬1、工藤 拓也1、大久保 智1、堀川 清貴1、平岩 篤1、川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.材研)

キーワード:ダイヤモンド、MOSFET、高周波

ダイヤモンドは優れた物性を有しており、特に、高周波高出力デバイスとして期待されている。高周波デバイスにおいて重要な指標であるカットオフ周波数はソース・ゲート間においてキャリア(正孔)が飽和速度に達し得る電圧を印加することにより向上の期待が持てる。本研究では高電界下での高周波特性をシミュレーションと実際に作製したデバイスにより評価する。