2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

[6p-A503-1~12] 15.7 結晶評価,不純物・結晶欠陥

2017年9月6日(水) 13:45 〜 17:00 A503 (503)

大野 裕(東北大)、仮屋崎 弘昭(グローバルウェーハズ・ジャパン)、中川 聰子(グローバルウェーハズ・ジャパン)

16:15 〜 16:30

[6p-A503-10] シリコン結晶中の低濃度炭素の測定(XIII)参照試料とブロックゲージとスペクトルと測定プロセスの共有による高感度高精度測定ネットワーク化と実用化

井上 直久1,2、河村 裕一2 (1.東京農工大、2.大阪府立大)

キーワード:シリコン結晶、炭素不純物濃度測定、赤外吸収

赤外吸収法による炭素濃度の商用測定法の世界規格はASTM規格が筆者を代表とする電子協の提案に基づき30年前に改定されたままで、後継のSEMI規格のdetection limitは5x1014cm-3 、SEMI規格と整合性のない電子協規格の検出下限は2x1015cm-3で、共に実際の濃度13乗台にはるかに及ばず有名無実化している。我々は「どこまでも誰でも何でも測れる」ことを目標に第二世代の赤外吸収法測定法の開発と、赤外装置メーカや分析サービス会社やシリコンメーカへの技術開示と、赤外吸収関係者やSIMS・放射化分析との相互校正を進め、日進月歩で今や13乗に達した低濃度化に対応し、参加を呼び掛け採用者が増えている。今回はその内容について報告する。