The 78th JSAP Autumn Meeting, 2017

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Oral presentation

21 Joint Session K » 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

[6p-C17-1~15] 21.1 Joint Session K "Wide bandgap oxide semiconductor materials and devices"

Wed. Sep 6, 2017 1:45 PM - 5:45 PM C17 (Training Room 2)

Hisao Makino(Kochi Univ. of Tech.)

2:45 PM - 3:00 PM

[6p-C17-5] Magnetoresistance of Dy-doped indium tin oxide thin films synthesized by sol-gel method.

Ryoya Ota1, Masaharu Nishioka1, Akira Fujimoto1, Yukiyasu Kashiwagi2, Masashi Saitoh2, Masami Nakamoto2, Yi-Kai Zhou3, Yoshiyuki Harada1, Tomosumi Kamimura1 (1.Osaka Inst of Tech., 2.ORIST, 3.Shanghai Normal Univ.)

Keywords:indium tin oxide, dysprosium, magnetoresistance

本研究では,ゾルゲル法により,Dyを添加した酸化インジウムスズ(Dy-ITO)薄膜の作製を試みた.半導体中にDyを添加することでキャリア誘起の強磁性が期待される.ゾルゲル法を用いることができれば,印刷法を併用したプリンテッドエレクトロニクスの手法によって,希薄磁性半導体薄膜の任意パターン形成が可能になると期待される.今回我々は,Dy濃度の異なるDy-ITO薄膜を作製し,電気特性や磁気抵抗を調べたので報告する.