10:45 〜 11:00
△ [7a-A402-7] ハイドロフルオロカーボンガスプラズマ活性種と絶縁膜エッチング特性に関する研究(2)
キーワード:プラズマ、絶縁膜エッチング
従来のプロセスガスとは異なりGWPが非常に低い冷媒代替ガスであるHFO-1234zeを用いて、絶縁膜のエッチング特性を評価した。講演では、プラズマ中のイオン種、電子密度など様々な結果から反応機構を考察する。
一般セッション(口頭講演)
8 プラズマエレクトロニクス » 8.4 プラズマエッチング
2017年9月7日(木) 09:00 〜 11:45 A402 (402+403)
林 久貴(東芝)
10:45 〜 11:00
キーワード:プラズマ、絶縁膜エッチング