[7a-A402-1~10] 8.4 Plasma etching

△ [7a-A402-8] Effect of Bias Voltage for Removal of DLC Films by Using Oxygen Plasma

〇Yuki Kondo¹, Itaru Fujita¹, Satoshi Degai¹, Tsuyoshi Tanimoto¹, Toru Harigai¹, Yoshiyuki Suda¹, Hirofumi Takikawa¹, Hidenobu Gonda², Yasuhiro Hadano³, Masao Kamiya⁴ (1.Toyohashi Univ. Technol, 2.OSG Corp., 3.Kojima Ind. Corp., 4.Itoh Opt. Ind. co., Ltd.)

Keywords:ashing, removal, diamond like carbon

機能性炭素膜であるダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜は工具や金型の保護膜として応用されている。コストや環境への配慮から使用済み工具や金型のDLC保護膜を除去し，母材を再利用しようという試みがある。そこで，本研究では低コストかつ環境負荷の小さな除膜方法として，酸素プラズマを用いたDLC膜の除膜を試み，除膜におけるバイアス電圧の影響を調べた。