2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[7a-C21-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

2017年9月7日(木) 09:00 〜 12:30 C21 (C21)

野口 隆(琉球大)、佐道 泰造(九大)

09:00 〜 09:15

[7a-C21-1] Geの金誘起層交換成長に与えるSn添加効果

畠中 駿介1、高 洪ミョウ2、杉野 貴之2、佐々木 雅也2、宮尾 正信2、佐道 泰造2 (1.九大工、2.九大システム情報)

キーワード:半導体、金属誘起成長