[7a-C21-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[7a-C21-2] SiSn/絶縁基板の低温固相成長に与える膜厚効果

〇八木 和樹¹、高 洪ミョウ²、杉野 貴之²、宮尾 正信²、佐道 泰造² (1.九大工、2.九大システム情報)

キーワード：半導体、固相成長