2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

8 プラズマエレクトロニクス » 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[7p-A402-7~23] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

2017年9月7日(木) 15:00 〜 19:30 A402 (402+403)

井上 泰志(千葉工大)、大津 康徳(佐賀大)

16:00 〜 16:15

[7p-A402-11] マイクロ波励起大気圧プラズマを用いたZnO薄膜堆積法の検討

大野 常久1、山田 涼輔1、當摩 哲也1、石島 達夫1、田中 康規1、上杉 喜彦1 (1.金沢大)

キーワード:プラズマ、酸化亜鉛、成膜

電子デバイスの製造には有機膜や無機膜の製膜工程があり、低コストかつ低温で製膜手法が求められている。我々は、マイクロ波励起大気圧プラズマジェット(MWAPPJ)とSol-gel法を組み合わせたZnO薄膜の製膜手法の開発を行っている。本研究では、MWAPPJと固体ターゲット材に塗布したZnO前駆体とを作用させることにより、薄膜堆積を行う手法を検討した。結果として、固定ターゲット材の積層枚数により堆積物の形状が変化することを確認した。