[7p-A402-7~23] 8.3 プラズマ成膜・表面処理

[7p-A402-20] 電子励起高密度ラジカル供給によるダイヤモンド成長

〇金 載浩¹、山田 英明¹、榊田 創¹ (1.産総研)

キーワード：ダイヤモンド、プラズマCVD、エピタキシャル成長

本研究では、マイクロストリップ線路を用いたライン状プラズマジェットを用いて、ダイヤモンドの大面積・高品質かつ高効率なエピタキシャル成長法の開発を行っている。本講演では、新規のダイヤモンド結晶成長法の開発背景と、最近行ったダイヤモンド結晶成長の検証実験の結果について報告する。