[7p-PA3-1~8] 8.1 Plasma production and control

△ [7p-PA3-5] Memory Effect on Extraction of an Aluminum-Nitride Ion Beam from a Magnetron Sputter type Ion Source

〇Kentaro Yoshioka¹, Takahiro Kenmotsu², Motoi Wada¹ (1.Sci. Eng. , Doshisha Univ., 2.Med. Sci. , Doshisha Univ.)

Keywords:sputtering, reactive plasma, ion beam

反応性スパッタリングプロセスにおいて，イオン源内壁の状態変化は運転履歴の影響を受けるため，これを明らかにするためには集中した長時間の調査が必要となる．本研究では，反応性スパッタによる窒化アルミニウム生成（AlN）を対象として，RF駆動型マグネトロンスパッタ型イオン源を使用した．放電時間の経過に伴い，イオン源内部はAlN膜で覆われ，イオンビーム電流量やプラズマの発光スペクトルへの影響が観測された．