2017年第78回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

[8p-A411-1~10] 13.1 Si系基礎物性・表面界面・シミュレーション

2017年9月8日(金) 13:15 〜 16:00 A411 (411)

嵯峨 幸一郎(ソニー)

15:30 〜 15:45

[8p-A411-9] バッチ式湿式洗浄機内の循環流抑制方法

宮崎 賢都1、〇松尾 美弥1、奥山 将吾1、羽深 等1、後藤 昭広2 (1.横国大院工、2.プレテック)

キーワード:ウエハ洗浄、水流、可視化観察

バッチ式シリコンウエハ湿式洗浄機において、循環流による再汚染を抑制するために、洗浄槽全体とウエハ内部の水の動き[1-3]を設計することが重要である。本研究では、洗浄槽内の循環流を抑制する方法として、洗浄槽壁面の上端部に排出孔を設けたので詳細を報告する。