13:15 〜 13:30
〇小川 真一1 (1.産総研)
シンポジウム(口頭講演)
シンポジウム » GFIS(電界電離ガスイオン源)ガスイオン顕微鏡技術とその材料・デバイス研究開発への応用:現状と今後の展望
2017年3月16日(木) 13:15 〜 18:00 315 (315)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:15 〜 13:30
〇小川 真一1 (1.産総研)
13:30 〜 14:00
〇Zhou Yongkai1 (1.Carl Zeiss Microscopy GmbH)
14:00 〜 14:30
〇八坂 行人1,2、荒巻 文朗1、小堺 智一1、松田 修1 (1.日立ハイテクサイエンス、2.日立ハイテクノロジーズ)
14:30 〜 14:45
〇前田 悦男1、飯島 智彦2、右田 真司2、小川 真一2、米谷 玲皇1 (1.東大工、2.産総研)
14:45 〜 15:00
〇高島 秀聡1、福田 純1、丸谷 浩永1、岩端 祐介1、Schell Andreas1、竹内 繁樹1 (1.京大院工)
15:00 〜 15:30
〇リック リビングッド1、Tan Shida1、Hallstein Roy M.1、Ali Waqas1 (1.Intel Corporation)
15:45 〜 16:15
〇水田 博1、シュミット マレク1、神崎 晃悠1、小川 真一2、ムルガナタン マノハラン1 (1.北陸先端大、2.産総研)
16:15 〜 16:45
〇Cybart Shane1 (1.UC Riverside)
16:45 〜 17:15
〇内藤 裕一1、小川 真一1 (1.産総研)
17:15 〜 17:45
〇中払 周1 (1.物材機構)
17:45 〜 18:00
〇(P)Schmidt Marek Edward1、Zhang Xiaobin1、Oshima Yoshifumi1、The Anh Le1、Yasaka Anto2、Kanzaki Teruhisa1、Muruganathan Manoharan1、Akabori Masashi1、Shimoda Tatsuya1、Mizuta Hiroshi1 (1.JAIST、2.Hitachi High-Tech Science Corp.)
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