[14a-304-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・配線・MEMS・集積化技術

[14a-304-10] 中空構造SOI層を用いた低温転写における転写歩留まり向上とプラスチック基板上での単結晶シリコンTFTと論理回路の作製

〇(M1)水上 隆達¹、竹島 真治¹、山下 知徳¹、東 清一郎¹ (1.広大院先端研)

キーワード：転写技術、フレキシブルエレクトロニクス、単結晶シリコン薄膜トランジスタ