[14p-423-1~14] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[14p-423-9] 電子線描画装置によるラインアンドスペースパターン形成における2変数2次近似モデルの検討

〇黒内 正仁¹、安井 学¹、小沢 武¹ (1.神奈川県産技セ)

キーワード：電子線リソグラフィ、ラインアンドスペース、補正