[15a-318-1~11] CS.4 7. コードシェアセッション：ビーム応用大分類

[15a-318-4] レーザー駆動EUV光を用いた材料プロセスのための不純物抑制

〇(M1C)和田 直¹、田中 のぞみ¹、景山 恭行²、出口 亮¹、余語 覚文¹、西村 博明¹ (1.阪大レーザー研、2.豊田中研)

キーワード：極端紫外EUV光、光材料プロセシング、プラズマデブリの抑制

近年、EUV光源開発を背景として、高強度EUV光の高光子エネルギー性を活かした新たな応用が注目されている。こうした中で我々はレーザー駆動EUV光を用いた材料プロセシングへの応用の実証を目的とした研究に着手している。材料プロセスでは高い洗浄度が要求されるため、EUV光源やEUV集光用光学素子からのデブリやスパッタ粒子によるサンプルへの影響を、まず、極限まで抑制しなければならない。本研究では、中性粒子を含む不純物抑制のための2つのEUV光輸送光学系を提案し、その特性とデブリやスパッタ粒子の抑制能力を評価した。