[15a-412-1~10] 6.2 Carbon-based thin films

△ [15a-412-5] Diamond deposition by remote plasma-enhanced CVD for selective-growth

〇Haruka Hoshino¹, Masafumi Inaba¹, Hiroshi Kawarada^1,2 (1.Waseda Univ., 2.Waseda Zaiken)

Keywords:diamond, chemical vapor deposition, remote plasma

ダイヤモンドパワーデバイスの立体的な性質を向上するために、選択成長は有用な方法である。プラズマ中に下地基板をおいて選択成長を行う場合、マスクの損傷が大きい。本研究では、マスクの損傷の少ない選択成長に向けて、リモートプラズマCVD法を用いてダイヤモンドの合成を行い、基板温度などの諸条件を独立制御し、その影響について検討した。また、リモートプラズマCVD法による選択成長も試みた。