[15a-502-1~12] 21.1 Joint Session K

[15a-502-12] Development of Low Resistivity ITO Film Deposited at Low Temperature Sputtering (2)

〇Yukiaki Oono¹, Kobayashi Motoshi¹, Takahashi Hirohisa¹, Arai Makoto¹, Ishibashi Satoru¹ (1.ULVAC, Inc.)

Keywords:transparent conducting oxide, Indium Tin Oxide, Low Temperature Sputtering

近年、スマートフォンなどに使用されているタッチセンサー(透明導電膜)ではデバイス構造の変化に伴い、低温プロセスで低抵抗にすることが重要なキーテクノロジーとなってきている。本報告では、成膜時の基板温度を室温以下にすることにより100℃以下のアニール処理で電気特性が改善することに成功しており、本技術の実用化に向けた試みに関して報告する。