[15a-F201-1~12] 15.7 結晶評価，不純物・結晶欠陥

△ [15a-F201-6] 表層固溶酸素濃度を制御した極薄シリコンウェーハの作製と特性

〇母ヶ野 和美¹、竹内 正太郎¹、須藤 治生²、青木 竜彦²、荒木 浩司²、泉妻 宏治²、酒井 朗¹ (1.阪大院基工、2.グローバルウェーハズ・ジャパン)

キーワード：極薄化Siウェーハ、ウェットエッチング、表層固溶酸素濃度制御