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[15a-P10-4] FLAでのpoly-Si形成におけるSiNx反射防止膜および照射方向の結晶構造への影響
キーワード:結晶化、フラッシュランプアニール
ガラス基板上に堆積したa-Si膜を、Xeランプからのミリ秒台の瞬間放電光を利用したFLAで結晶化する手法において、反射防止膜として使用するSiNx膜の存在やパルス光の照射方向がpoly-Siの構造におよぼす影響を調査した。形成したすべてのpoly-Si膜は、少なくとも数十µmの長さを有する細長い結晶粒からなることをEBSD像から確認した。この結果から、SiNx膜の存在およびパルス光の照射方向は、poly-Si膜の構造に大きな影響を与えないことが明らかになった。