2017年第64回応用物理学会春季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[15a-P10-1~5] 16.1 基礎物性・評価・プロセス・デバイス

2017年3月15日(水) 09:30 〜 11:30 P10 (展示ホールB)

09:30 〜 11:30

[15a-P10-4] FLAでのpoly-Si形成におけるSiNx反射防止膜および照射方向の結晶構造への影響

〇(M2)園田 裕生1、大平 圭介1 (1.北陸先端大)

キーワード:結晶化、フラッシュランプアニール

ガラス基板上に堆積したa-Si膜を、Xeランプからのミリ秒台の瞬間放電光を利用したFLAで結晶化する手法において、反射防止膜として使用するSiNx膜の存在やパルス光の照射方向がpoly-Siの構造におよぼす影響を調査した。形成したすべてのpoly-Si膜は、少なくとも数十µmの長さを有する細長い結晶粒からなることをEBSD像から確認した。この結果から、SiNx膜の存在およびパルス光の照射方向は、poly-Si膜の構造に大きな影響を与えないことが明らかになった。