[15a-P5-1~9] 6.4 Thin films and New materials

[15a-P5-2] The control of the crystal phase and characteristics in MoO_X thin films by the post-annealing under uniaxial compression

〇Ryotaro Nanba¹, Nobuo Tsuchimine², Satoru Kaneko^3,1, Akifumi Matsuda¹, Mamoru Yoshimoto¹ (1.Tokyo Tech., 2.TOSHIMA Manu. Co., Ltd., 3.Kanagawa Ind. Tech. Center)

Keywords:Molybdenum Oxide, Solid phase Crystallization, Thermal Nanoimprint

デバイス応用に向けて，MoO_X薄膜の結晶相および結晶性，それらに起因する物性制御が重要となるが，Moイオンの価数や，結晶相制御に関する報告はまだ少ない．本研究では， Moイオンの化学状態や，結晶相による特性の制御を目的とし，エピタキシャルα-MoO₃薄膜と非晶質MoO_X薄膜のナノインプリント装置を活用した一軸加圧下熱処理による，結晶相制御と特性評価を行ったので報告する．