[15p-311-1~18] 6.4 Thin films and New materials

△ [15p-311-7] Epitaixial growth of niobium hydride using reactive magnetron sputtering

〇(B)Yuki Sasahara¹, Ryota Shimizu¹, Issei Sugiyama¹, Hiroyuki Oguchi², Susumu Shiraki², Shinichi Orimo^2,3, Taro Hitosugi^1,2 (1.Tokyo Tech, 2.Tohoku Univ. AIMR, 3.Tohoku Univ. IMR)

Keywords:metal hydride, epitaxial growth, magnetron sputtering

金属水素化物において、詳細な物性研究に必要なエピタキシャル薄膜の合成例は少ない。我々のグループでは反応性マグネトロンスパッタ法を用いた、単相のTiH₂薄膜のエピタキシャル成長を報告した。水素化物の精緻な物性研究に向けた次なるステップとして、Ti以外の金属水素化物の薄膜合成とその成長方位制御を実現する必要がある。そこで、本研究ではNbHに着目し、そのエピタキシャル成長を試みたので報告する。